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Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
Ni and Ti silicide oxidation for CMOS applications investigated by XRD, XPS and FPP
BSO - Titre
Ni and Ti silicide oxidation for CMOS applications investigated by XRD, XPS and FPP
Identifiant WoS
WOS:000412963700070
Accès ouvert
OA - Non
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Non OA
Editeur

Elsevier

Source

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

ISSN
1369-8001
Type de document
  • Article
Notoriété
3 - Correcte
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
uid:/32QBTGPV
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